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超純水設備凈化法流程描述

2012-09-27

  超純水設備凈化法流程描述

  電子、半導體工業的芯片生產在制作過程中,往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話,會影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。此外,晶元清洗和機械碾磨過程中都會產生廢水,造成對環境的污染。

  通過使用超濾、反滲透、EDI和核子級離子交換系統來生產滿足需求的超純水。并將生產過程中所產生的廢水經過膜系統的處理進行回收再利用,在很大程度上減少了電子、半導體行業的用水量、降低了生產成本.

  微電子行業包括了電解電容器生產、電子管生產、顯像管和陰極射線管生產、黑白顯像管熒光屏生產、液晶顯示器的生產、晶體管生產、集成電路生產、電子新材料生產等生產工藝,都需要工業超純水。傳統化學及介質過濾生產超純水的方法,會因在水中添加各種化學劑,制備過程冗長等各種因素造成產水的不穩定,無法確保長期、穩定的超純水。

  采用“物理”凈化法(超濾→反滲透→EDI→拋光混床),使超純水制備從傳統的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復合離子交換器等發生了一次革命,從此進入了一個無需再生化學品的時代。膜法制備出來的工業純水,其純度可達到18MΩ·CM,且系統穩定,使用壽命長,且生產過程所產生的廢水又可回用再生。

  純凈水設備:

  反滲透系統是整個純凈水系統的核心部件,只有通過反滲透才能達到純凈水的標準。反滲透系統主要采用膜過濾工藝。然后水分子可以通過反滲透膜。其他一些如鈣、鎂、鈉等離子隨廢水一起排掉。下面本系統的組成部件。

  1.精密過濾器

  本過濾器主要過濾水中的大顆粒分子。

  2.特種高壓泵

  一般這里我們采用的高壓泵為南方特種泵。為反滲透設備提供強勁的動力。

  3.反滲透膜

  反滲透膜采用的是膜過濾技術。讓水分子通過其他一些離子不能通過達到凈化水的目的。

  純凈水設備_原水預處理系統:

  作為純凈水生產的依托是非常重要的。所以要生產純凈水一定是要選擇原水水質比較好的地方。如山泉、深井等。在這里牽扯到一個非常重要的指數就是“電導率”。一般而言電導率,越低。水越純凈,F在采用的水處理工藝都是采用的反滲透系統。經過處理后的水一般能達到90%——99%的脫鹽率。下面我介紹一下這個系統的組成部件。

  1.原水泵

  原水泵是為原水預處理系統提供原水壓力的作用。如果原水有壓力就完全可以不用這個設備。一般要求原水壓力>=0.3MP

  2.原水箱

  原水箱的作用更簡單,是儲存原水用的。這是怕原水萬一供不上作一個中轉。

  3.石英砂過濾器

  這個設備主要是過濾水中的微生物、塵土使原水達到清澈的目的。

  4.活性炭過濾器

  該設備主要是過濾水中的余氯。

  5.加藥系統(陰陽離子交換系統)

  以前本系統為陰陽離子交換系統,但是操作起來非常不容易且費工,費料,F在改為加藥系統直接向里添加阻垢劑。

經典工程案例

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